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意法借力Soitec背光技術(shù)開發(fā)下一代影像傳感器

發(fā)布時間:2009-05-20

新聞事件:
  • 意法半導(dǎo)體與工程基板供應(yīng)商Soitec宣布兩家公司簽訂一項排他性合作協(xié)議
  • 將合作開發(fā)300毫米晶圓級背光(BSI)技術(shù),制造用于消費電子產(chǎn)品中的下一代影像傳感器
事件起因:
  • 在下一代影像傳感器開發(fā)過程中,背光(BSI)技術(shù)是應(yīng)對這一挑戰(zhàn)的關(guān)鍵技術(shù)
  • 這項協(xié)議將加快具成本競爭力的先進影像傳感器制程工藝的發(fā)展進化
  • 進一步鞏固格勒諾布爾地區(qū)作為全球CMOS先進影像傳感器技術(shù)領(lǐng)導(dǎo)中心的地位
意法半導(dǎo)體與工程基板供應(yīng)商Soitec宣布兩家公司簽訂一項排他性合作協(xié)議。根據(jù)此協(xié)議,兩家公司將合作開發(fā)300毫米晶圓級背光(BSI)技術(shù),制造用于消費電子產(chǎn)品中的下一代影像傳感器。

當(dāng)今的前沿影像傳感器技術(shù)的分辨率正在持續(xù)提高,同時也不斷要求縮減相機模塊的整體尺寸,特別是消費電子市場要求更為迫切。這意味著影像產(chǎn)業(yè)需要開發(fā)個別像素粒子更小、同時還能保持像素靈敏度和高畫質(zhì)的影像技術(shù)。在下一代影像傳感器開發(fā)過程中,背光(BSI)技術(shù)是應(yīng)對這一挑戰(zhàn)的關(guān)鍵技術(shù)。

兩家公司的合作協(xié)議包括Soitec授權(quán)意法半導(dǎo)體在300毫米晶圓上使用Smart Stacking鍵合技術(shù)制造背光傳感器。這項技術(shù)是由Soitec集團中的Tracit事業(yè)部開發(fā)的,利用分子鍵合技術(shù)和機械以及化學(xué)薄化技術(shù)。意法半導(dǎo)體將開發(fā)新一代影像傳感器,利用先進的65納米以及65納米以下的衍生CMOS制程工藝技術(shù),在法國南部Crolles的300毫米晶圓制造廠生產(chǎn)。結(jié)合意法半導(dǎo)體先進的晶圓制造能力,Smart Stacking技術(shù)將有助于意法半導(dǎo)體加強在高性能移動消費電子影像傳感器開發(fā)與供應(yīng)的領(lǐng)先地位。

“對于尖端影像傳感器開發(fā)來說,背光技術(shù)是小像素、高畫質(zhì)競賽的一個要素,”意法半導(dǎo)體事業(yè)群副總裁兼影像產(chǎn)品部總經(jīng)理Eric Aussedat表示,“通過與Soitec合作,意法半導(dǎo)體可以在相機產(chǎn)品中快速部署Smart Stacking技術(shù)。這項協(xié)議將加快具成本競爭力的先進影像傳感器制程工藝的發(fā)展進化,進一步鞏固格勒諾布爾(Grenoble)地區(qū)作為全球CMOS先進影像傳感器技術(shù)領(lǐng)導(dǎo)中心的地位。”

“意法半導(dǎo)體選擇我們的Smart Stacking技術(shù)來發(fā)展背光產(chǎn)品,我們感到非常高興。”Soitec集團公司董事長兼總裁Andre-Jacques Auberton-Herve表示,“我們的Tracit事業(yè)部開發(fā)的這項技術(shù),支持快速部署與工程基板和3D集成相關(guān)的先進制程工藝,我們非常高興能夠支持意法半導(dǎo)體以客戶利益為重的創(chuàng)新承諾。”
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